文献
J-GLOBAL ID:201702237062682886
整理番号:17A0590371
反応性高出力インパルスマグネトロンスパッタリングにより堆積したSiNxコーティング 残留コーティング応力に影響するプロセスパラメータ
SiNx coatings deposited by reactive high power impulse magnetron sputtering: Process parameters influencing the residual coating stress
著者 (8件):
Schmidt S.
(Thin Film Physics Division, Department of Physics (IFM), Linkoping University, SE-581 83 Linkoping, Sweden)
,
Haenninen T.
(Thin Film Physics Division, Department of Physics (IFM), Linkoping University, SE-581 83 Linkoping, Sweden)
,
Wissting J.
(Thin Film Physics Division, Department of Physics (IFM), Linkoping University, SE-581 83 Linkoping, Sweden)
,
Hultman L.
(Thin Film Physics Division, Department of Physics (IFM), Linkoping University, SE-581 83 Linkoping, Sweden)
,
Goebbels N.
(IHI Ionbond AG, Industriestrasse 211, CH-4600 Olten, Switzerland)
,
Santana A.
(IHI Ionbond AG, Industriestrasse 211, CH-4600 Olten, Switzerland)
,
Tobler M.
(IHI Ionbond AG, Industriestrasse 211, CH-4600 Olten, Switzerland)
,
Hogberg H.
(Thin Film Physics Division, Department of Physics (IFM), Linkoping University, SE-581 83 Linkoping, Sweden)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
121
号:
17
ページ:
171904-171904-8
発行年:
2017年05月07日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)