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文献
J-GLOBAL ID:201702238317255818   整理番号:17A1640748

NiSiソース/ドレインをもつ誘電体工学ドーパント偏析Schottky障壁MOSFETの設計と研究【Powered by NICT】

Design and Investigation of Dielectric Engineered Dopant Segregated Schottky Barrier MOSFET With NiSi Source/Drain
著者 (2件):
Kale Sumit
(Department of Electronics and Communication Engineering, VLSI Electron Device and Nano-Technology Research Group, PDPM-Indian Institute of Information Technology Design and Manufacturing, Jabalpur, India)
Kondekar Pravin N.
(Department of Electronics and Communication Engineering, VLSI Electron Device and Nano-Technology Research Group, PDPM-Indian Institute of Information Technology Design and Manufacturing, Jabalpur, India)

資料名:
IEEE Transactions on Electron Devices  (IEEE Transactions on Electron Devices)

巻: 64  号: 11  ページ: 4400-4407  発行年: 2017年 
JST資料番号: C0222A  ISSN: 0018-9383  CODEN: IETDAI  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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