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文献
J-GLOBAL ID：201702239141882106
整理番号：17A0471596
混合ガスを用いた直流マグネトロンスパッタリングにより堆積したヘリウム充填チタン水素化物膜の合成と特性評価【Powered by NICT】
Synthesis and characterization of helium-charged titanium hydride films deposited by direct current magnetron sputtering with mixed gas
Han Zhibin
(Applied Ion Beam Physics Laboratory, Institute of Modern Physics, Fudan University, Shanghai 200433, PR China)
,
Han Zhibin
(Department of Nuclear Science and Technology, Fudan University, Shanghai 200433, PR China)
,
Wang Chunjie
(Applied Ion Beam Physics Laboratory, Institute of Modern Physics, Fudan University, Shanghai 200433, PR China)
,
Wang Chunjie
(Department of Nuclear Science and Technology, Fudan University, Shanghai 200433, PR China)
,
Shi Liqun
(Applied Ion Beam Physics Laboratory, Institute of Modern Physics, Fudan University, Shanghai 200433, PR China)
,
Shi Liqun
(Department of Nuclear Science and Technology, Fudan University, Shanghai 200433, PR China)
資料名：
Materials & Design
(Materials & Design)
巻： 119 ページ： 180-187 発行年： 2017年
JST資料番号： A0495B ISSN： 0264-1275 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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