文献
J-GLOBAL ID:201702239698103216
整理番号:17A0402791
生体材料応用のための304L上の高周波マグネトロンスパッタリングにより堆積したTiO_2の特性に及ぼす基板バイアス電圧の影響【Powered by NICT】
Influence of substrate bias voltage on the properties of TiO2 deposited by radio-frequency magnetron sputtering on 304L for biomaterials applications
著者 (4件):
Bait L.
(Division Milieux Ionises et Lasers, Centre de Developpement des Technologies Avancees, CDTA,Cite du 20 aout 1956, Baba Hassen, BP n°. 17, Alger, Algerie)
,
Azzouz L.
(Universite de Amar Telidji, Laghouat, Algerie)
,
Madaoui N.
(Division Milieux Ionises et Lasers, Centre de Developpement des Technologies Avancees, CDTA,Cite du 20 aout 1956, Baba Hassen, BP n°. 17, Alger, Algerie)
,
Saoula N.
(Division Milieux Ionises et Lasers, Centre de Developpement des Technologies Avancees, CDTA,Cite du 20 aout 1956, Baba Hassen, BP n°. 17, Alger, Algerie)
資料名:
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻:
395
ページ:
72-77
発行年:
2017年
JST資料番号:
B0707B
ISSN:
0169-4332
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)