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文献
J-GLOBAL ID：201702240189175136
整理番号：17A0445372
パルスレーザ蒸着したK Y3F10H0 3+薄膜:基板距離へのターゲットの影響【Powered by NICT】
Pulsed laser deposited K Y 3 F 10 :H o 3+ thin films: Influence of target to substrate distance
Debelo N.G.
(Private Bag X13, Department of Physics, University of the Free State, Qwa Qwa Campus, Phuthaditjhaba, South Africa)
,
Dejene F.B.
(Private Bag X13, Department of Physics, University of the Free State, Qwa Qwa Campus, Phuthaditjhaba, South Africa)
,
Roro K.T.
(Energy Center, Council for Scientific and Industrial Research, P.O.Box 395, Pretoria 0001, South Africa)
資料名：
Materials Chemistry and Physics
(Materials Chemistry and Physics)
巻： 190 ページ： 62-67 発行年： 2017年
JST資料番号： E0934A ISSN： 0254-0584 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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