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文献
J-GLOBAL ID：201702240495693461
整理番号：17A0969267
UVフォトリソグラフィーを用いて作製したエポキシを基にしたフォトレジストの懸濁微細構造【Powered by NICT】
Suspended microstructures of epoxy based photoresists fabricated with UV photolithography
Hemanth Suhith
(Department of Micro and Nanotechnology, DTU Nanotech, 2800 Kongens Lyngby, Denmark)
,
Anhoj Thomas A.
(DTU Danchip, 2800 Kongens Lyngby, Denmark)
,
Caviglia Claudia
(Department of Micro and Nanotechnology, DTU Nanotech, 2800 Kongens Lyngby, Denmark)
,
Keller Stephan S.
(Department of Micro and Nanotechnology, DTU Nanotech, 2800 Kongens Lyngby, Denmark)
資料名：
Microelectronic Engineering
(Microelectronic Engineering)
巻： 176 ページ： 40-44 発行年： 2017年
JST資料番号： C0406B ISSN： 0167-9317 CODEN： MIENEF 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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