文献
J-GLOBAL ID:201702240995775604
整理番号:17A0084908
高周波スパッタリングを使用してのLaNiO3上のマルチフェロイックLa0.8Bi0.2Fe0.7Mn0.3O3の薄膜成長と特性化
Thin film growth of multiferroic La0.8Bi0.2Fe0.7Mn0.3O3 on LaNiO3 using RF sputtering and its characterization
著者 (3件):
Anjum G.
(Department of Physics, Central University of Kashmir, Srinagar 190004, J&K, India)
,
Bhat F.H.
(Department of Physics, Islamic University of Science and Technology, Awantipora 192122, India)
,
Kumar Ravi
(Beant College of Engineering and Technology, Gurdaspur, Punjab 143521, India)
資料名:
Materials Letters
(Materials Letters)
巻:
185
ページ:
112-114
発行年:
2016年12月15日
JST資料番号:
E0935A
ISSN:
0167-577X
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)