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文献
J-GLOBAL ID:201702240995775604   整理番号:17A0084908

高周波スパッタリングを使用してのLaNiO3上のマルチフェロイックLa0.8Bi0.2Fe0.7Mn0.3O3の薄膜成長と特性化

Thin film growth of multiferroic La0.8Bi0.2Fe0.7Mn0.3O3 on LaNiO3 using RF sputtering and its characterization
著者 (3件):
Anjum G.
(Department of Physics, Central University of Kashmir, Srinagar 190004, J&K, India)
Bhat F.H.
(Department of Physics, Islamic University of Science and Technology, Awantipora 192122, India)
Kumar Ravi
(Beant College of Engineering and Technology, Gurdaspur, Punjab 143521, India)

資料名:
Materials Letters  (Materials Letters)

巻: 185  ページ: 112-114  発行年: 2016年12月15日 
JST資料番号: E0935A  ISSN: 0167-577X  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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