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文献
J-GLOBAL ID：201702241004735217
整理番号：17A0462180
大きな曲面形状上のポリマのナノ構造に対する,コンフォーマルな反転インプリントリソグラフィ
Conformal reversal imprint lithography for polymer nanostructuring over large curved geometries
Dickson Mary Nora
(Department of Chemical Engineering and Materials Science, University of California, Irvine, California, 92697)
,
Tsao Justin
(Department of Mechanical and Aerospace Engineering, University of California, Irvine, California, 92697)
,
Liang Elena I.
(Department of Biomedical Engineering, University of California, Irvine, California, 92697)
,
Navarro Noel I.
(Department of Biomedical Engineering, University of California, Irvine, California, 92697)
,
Patel Yash R.
(Department of Neurobiology and Behavior, University of California, Irvine, California, 92697)
,
Yee Albert F.
(Department of Chemical Engineering and Materials Science, University of California, Irvine, California, 92697)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena)
巻： 35 号： 2 ページ： 021602-021602-4 発行年： 2017年03月
JST資料番号： E0974A ISSN： 2166-2746 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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