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文献
J-GLOBAL ID：201702242248432430
整理番号：17A0888289
k-最近傍とファジィk-最近傍を用いたプラズマエッチングプロセス中の粒子汚染検出【Powered by NICT】
Particles contaminations detection during plasma etching process by using k-nearest neighbors and Fuzzy k-nearest neighbors
Somari Noratika Mohammad
(Faculty of Electrical Engineering, Universiti Teknologi MARA (UiTM) Malaysia, Kampus Pulau Pinang, 13500 Permatang Pauh, Malaysia)
,
Abdullah Mohd Firdaus
(Faculty of Electrical Engineering, Universiti Teknologi MARA (UiTM) Malaysia, Kampus Pulau Pinang, 13500 Permatang Pauh, Malaysia)
,
Osman Muhammad Khusairi
(Faculty of Electrical Engineering, Universiti Teknologi MARA (UiTM) Malaysia, Kampus Pulau Pinang, 13500 Permatang Pauh, Malaysia)
,
Nazelan Abdul Mu’iz
(Faculty of Electrical Engineering, Universiti Teknologi MARA (UiTM) Malaysia, Kampus Pulau Pinang, 13500 Permatang Pauh, Malaysia)
,
Ahmad Khairul Azman
(Faculty of Electrical Engineering, Universiti Teknologi MARA (UiTM) Malaysia, Kampus Pulau Pinang, 13500 Permatang Pauh, Malaysia)
,
Appanan Sooria Pragash Rao S.
(Infineon Technologies (Kulim) Sdn. Bhd, Lot 10&11, Industrial Zone Phase II, Kulim Hi-Tech Park 09000, Kedah, Malaysia)
,
Hooi Loh Kwang
(Infineon Technologies (Kulim) Sdn. Bhd, Lot 10&11, Industrial Zone Phase II, Kulim Hi-Tech Park 09000, Kedah, Malaysia)
資料名：
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻： 2016 号： ICCSCE ページ： 512-516 発行年： 2016年
JST資料番号： W2441A 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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