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文献
J-GLOBAL ID:201702242833470675   整理番号:17A1388123

GaAsエピレディ基板上にMOCVDにより成長させた(100)HgCdTe層上のヒロック形成の研究【Powered by NICT】

Investigation of hillocks formation on (100) HgCdTe layers grown by MOCVD on GaAs epi-ready substrates
著者 (7件):
Keblowski A.
(Vigo System S.A., 129/133 Poznanska St., 05-850 Ozarow Mazowiecki, Poland)
Kopytko M.
(Institute of Applied Physics, Military University of Technology, 2 Kaliskiego St., 00-908 Warsaw, Poland)
Mlynarczyk K.
(Vigo System S.A., 129/133 Poznanska St., 05-850 Ozarow Mazowiecki, Poland)
Gawron W.
(Vigo System S.A., 129/133 Poznanska St., 05-850 Ozarow Mazowiecki, Poland)
Piotrowski J.
(Vigo System S.A., 129/133 Poznanska St., 05-850 Ozarow Mazowiecki, Poland)
Martyniuk P.
(Institute of Applied Physics, Military University of Technology, 2 Kaliskiego St., 00-908 Warsaw, Poland)
Rogalski A.
(Institute of Applied Physics, Military University of Technology, 2 Kaliskiego St., 00-908 Warsaw, Poland)

資料名:
Infrared Physics & Technology  (Infrared Physics & Technology)

巻: 84  ページ: 87-93  発行年: 2017年 
JST資料番号: H0184A  ISSN: 1350-4495  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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