文献
J-GLOBAL ID:201702242833470675
整理番号:17A1388123
GaAsエピレディ基板上にMOCVDにより成長させた(100)HgCdTe層上のヒロック形成の研究【Powered by NICT】
Investigation of hillocks formation on (100) HgCdTe layers grown by MOCVD on GaAs epi-ready substrates
著者 (7件):
Keblowski A.
(Vigo System S.A., 129/133 Poznanska St., 05-850 Ozarow Mazowiecki, Poland)
,
Kopytko M.
(Institute of Applied Physics, Military University of Technology, 2 Kaliskiego St., 00-908 Warsaw, Poland)
,
Mlynarczyk K.
(Vigo System S.A., 129/133 Poznanska St., 05-850 Ozarow Mazowiecki, Poland)
,
Gawron W.
(Vigo System S.A., 129/133 Poznanska St., 05-850 Ozarow Mazowiecki, Poland)
,
Piotrowski J.
(Vigo System S.A., 129/133 Poznanska St., 05-850 Ozarow Mazowiecki, Poland)
,
Martyniuk P.
(Institute of Applied Physics, Military University of Technology, 2 Kaliskiego St., 00-908 Warsaw, Poland)
,
Rogalski A.
(Institute of Applied Physics, Military University of Technology, 2 Kaliskiego St., 00-908 Warsaw, Poland)
資料名:
Infrared Physics & Technology
(Infrared Physics & Technology)
巻:
84
ページ:
87-93
発行年:
2017年
JST資料番号:
H0184A
ISSN:
1350-4495
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)