文献
J-GLOBAL ID:201702243007980178
整理番号:17A1090478
クリティカルディメンションの散乱計測用のTiN金属ハードマスクの進んだ光学モデリング
Advanced optical modeling of TiN metal hard mask for scatterometric critical dimension metrology
著者 (4件):
EBERSBACH Peter
(GLOBALFOUNDRIES Dresden Module One LLC & Co. KG, Dresden, DEU)
,
URBANOWICZ Adam M.
(Nova Measuring Instruments, Dresden, DEU)
,
LIKHACHEV Dmitriy
(GLOBALFOUNDRIES Dresden Module One LLC & Co. KG, Dresden, DEU)
,
HARTIG Carsten
(GLOBALFOUNDRIES Dresden Module One LLC & Co. KG, Dresden, DEU)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
10145
号:
Pt.2
ページ:
101451G.1-101451G.13
発行年:
2017年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)