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文献
J-GLOBAL ID：201702243350678267
整理番号：17A0704158
プラズマ蒸着水素化非晶質シリコン膜:マルチスケールモデル化重要なプロセスを明らかにする【Powered by NICT】
Plasma-deposited hydrogenated amorphous silicon films: multiscale modelling reveals key processes
Marvi Z.
(Plasma Sources and Applications Centre, NIE, Nanyang Technological University, 637616 Singapore. shuyan.xu@nie.edu.sg)
,
Xu S.
,
Foroutan G.
,
Ostrikov K.
,
Levchenko I.
資料名：
RSC Advances (Web)
(RSC Advances (Web))
巻： 7 号： 31 ページ： 19189-19196 発行年： 2017年
JST資料番号： U7055A ISSN： 2046-2069 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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