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文献
J-GLOBAL ID：201702243842698742
整理番号：17A1205061
アークイオンめっき法とマグネトロンスパッタリングにより交互に堆積させたTiN多層コーティングの残留応力
Residual Stress of TiN Multilayer Coatings Alternately Deposited by Arc Ion Plating and Magnetron Sputtering
MEI Haijuan
(Shenzhen Polytechnic, Shenzhen, CHN)
,
MEI Haijuan
(Guangdong Univ. Technol., Guangzhou, CHN)
,
ZHAO Shengsheng
(Shenzhen Polytechnic, Shenzhen, CHN)
,
WANG Qimin
(Guangdong Univ. Technol., Guangzhou, CHN)
資料名：
Nanoscience and Nanotechnology Letters
(Nanoscience and Nanotechnology Letters)
巻： 9 号： 6 ページ： 885-891 発行年： 2017年06月
JST資料番号： W2373A ISSN： 1941-4900 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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