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文献
J-GLOBAL ID：201702244109897744
整理番号：17A0462110
シリコン基板上のスパッタ堆積したCrドープ窒化アルミニウム薄膜の磁気およびマイクロ構造特性
Magnetic and microstructural properties of sputter deposited Cr-doped aluminum nitride thin films on silicon substrates
Wistrela E.
(Institute of Sensor and Actuator Systems, TU Wien, Gusshausstrasse 27-29, 1040 Vienna, Austria)
,
Bittner A.
(Institute of Sensor and Actuator Systems, TU Wien, Gusshausstrasse 27-29, 1040 Vienna, Austria)
,
Schneider M.
(Institute of Sensor and Actuator Systems, TU Wien, Gusshausstrasse 27-29, 1040 Vienna, Austria)
,
Reissner M.
(Institute of Solid State Physics, TU Wien, Wiedner Hauptstrasse 8-10, 1040 Vienna, Austria)
,
Schmid U.
(Institute of Sensor and Actuator Systems, TU Wien, Gusshausstrasse 27-29, 1040 Vienna, Austria)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 121 号： 11 ページ： 115302-115302-7 発行年： 2017年03月21日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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