文献
J-GLOBAL ID:201702244789168157
整理番号:17A0325809
対称スーパーキャパシタのための反応性DCマグネトロンスパッタリングにより作製したCrN薄膜【Powered by NICT】
CrN thin films prepared by reactive DC magnetron sputtering for symmetric supercapacitors
著者 (6件):
Wei Binbin
(Department of Chemical and Biochemical Engineering, College of Chemistry and Chemical Engineering, Xiamen University, Xiamen 361005, China. zcwang@xmu.edu.cn)
,
Liang Hanfeng
,
Zhang Dongfang
,
Wu Zhengtao
,
Qi Zhengbing
,
Wang Zhoucheng
資料名:
Journal of Materials Chemistry A. Materials for Energy and Sustainability
(Journal of Materials Chemistry A. Materials for Energy and Sustainability)
巻:
5
号:
6
ページ:
2844-2851
発行年:
2017年
JST資料番号:
W0204B
ISSN:
2050-7488
CODEN:
JMCAET
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)