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文献
J-GLOBAL ID:201702245303994010   整理番号:17A0617235

電気化学的同時堆積で作ったCuGaS前駆物質薄膜の特性に与えるGa量の影響

Effect of Ga content on the properties of CuGaS precursor thin films produced by electrochemical Co-deposition
著者 (2件):
YILDIRIM H.
(Uludag Univ., Bursa, TUR)
PEKSOZ Ahmet
(Uludag Univ., Bursa, TUR)

資料名:
Journal of Materials Science. Materials in Electronics  (Journal of Materials Science. Materials in Electronics)

巻: 28  号:ページ: 6194-6200  発行年: 2017年04月 
JST資料番号: W0003A  ISSN: 0957-4522  CODEN: JMTSAS  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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