文献
J-GLOBAL ID:201702245864600937
整理番号:17A1546645
段容量-電圧とコンダクタンス-電圧プロファイルによるシリコン(111)上のAlGaN/InGaNヘテロ界面におけるプロービングInGaN不混和性【Powered by NICT】
Probing InGaN immiscibility at AlGaN/InGaN heterointerface on silicon (111) through two-step capacitance-voltage and conductance-voltage profiles
著者 (4件):
Bag Ankush
(School of Computing and Electrical Engineering, Indian Institute of Technology, Mandi 175005, India)
,
Majumdar Shubhankar
(Advanced Technology Development Centre, Indian Institute of Technology, Kharagpur 721302, India)
,
Das Subhashis
(School of Computing and Electrical Engineering, Indian Institute of Technology, Mandi 175005, India)
,
Biswas Dhrubes
(Advanced Technology Development Centre, Indian Institute of Technology, Kharagpur 721302, India)
資料名:
Materials & Design
(Materials & Design)
巻:
133
ページ:
176-185
発行年:
2017年
JST資料番号:
A0495B
ISSN:
0264-1275
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)