文献
J-GLOBAL ID:201702245956968046
整理番号:17A0132730
原子層堆積法により成膜した窒化チタン薄膜の応力制御
Stress modulation of titanium nitride thin films deposited using atomic layer deposition
著者 (5件):
Nahar Manuj
(Micron Technology, Inc., 8000 S. Federal Way, Boise, Idaho 83707)
,
Rocklein Noel
(Micron Technology, Inc., 8000 S. Federal Way, Boise, Idaho 83707)
,
Andreas Michael
(Micron Technology, Inc., 8000 S. Federal Way, Boise, Idaho 83707)
,
Funston Greg
(Micron Technology, Inc., 8000 S. Federal Way, Boise, Idaho 83707)
,
Goodner Duane
(Micron Technology, Inc., 8000 S. Federal Way, Boise, Idaho 83707)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
35
号:
1
ページ:
01B144-01B144-9
発行年:
2017年01月
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)