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文献
J-GLOBAL ID：201702246167075244
整理番号：17A0451624
応力緩和実験により明らかにされたナノ積層グラフェン/銅複合体における増強された転位閉塞【Powered by NICT】
Enhanced dislocation obstruction in nanolaminated graphene/Cu composite as revealed by stress relaxation experiments
Li Zan
(State Key Laboratory of Metal Matrix Composites, Shanghai Jiao Tong University, Shanghai 200240, China)
,
Zhao Lei
(State Key Laboratory of Metal Matrix Composites, Shanghai Jiao Tong University, Shanghai 200240, China)
,
Guo Qiang
(State Key Laboratory of Metal Matrix Composites, Shanghai Jiao Tong University, Shanghai 200240, China)
,
Li Zhiqiang
(State Key Laboratory of Metal Matrix Composites, Shanghai Jiao Tong University, Shanghai 200240, China)
,
Fan Genlian
(State Key Laboratory of Metal Matrix Composites, Shanghai Jiao Tong University, Shanghai 200240, China)
,
Guo Cuiping
(State Key Laboratory of Metal Matrix Composites, Shanghai Jiao Tong University, Shanghai 200240, China)
,
Zhang Di
(State Key Laboratory of Metal Matrix Composites, Shanghai Jiao Tong University, Shanghai 200240, China)
資料名：
Scripta Materialia
(Scripta Materialia)
巻： 131 ページ： 67-71 発行年： 2017年
JST資料番号： B0915A ISSN： 1359-6462 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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