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J-GLOBAL ID：201702246385494076 整理番号：17A0855049

TMA前処理したSi基板上にプラズマ増強原子層蒸着した白金薄膜【Powered by NICT】

Plasma enhanced atomic layer deposited platinum thin film on Si substrate with TMA pretreatment

著者 (9件)：

Shi Mao-Lin

(State Key Laboratory of ASIC and System, School of Microelectronics, Fudan University, Shanghai 200433, China)

,

Xu Jing

(State Key Laboratory of ASIC and System, School of Microelectronics, Fudan University, Shanghai 200433, China)

,

Dai Ya-Wei

(State Key Laboratory of ASIC and System, School of Microelectronics, Fudan University, Shanghai 200433, China)

,

Cao Qian

(State Key Laboratory of ASIC and System, School of Microelectronics, Fudan University, Shanghai 200433, China)

,

Chen Lin

(State Key Laboratory of ASIC and System, School of Microelectronics, Fudan University, Shanghai 200433, China)

,

Sun Qing-Qing

(State Key Laboratory of ASIC and System, School of Microelectronics, Fudan University, Shanghai 200433, China)

,

Zhou Peng

(State Key Laboratory of ASIC and System, School of Microelectronics, Fudan University, Shanghai 200433, China)

,

Ding Shi-Jin

(State Key Laboratory of ASIC and System, School of Microelectronics, Fudan University, Shanghai 200433, China)

,

Zhang David Wei

(State Key Laboratory of ASIC and System, School of Microelectronics, Fudan University, Shanghai 200433, China)

資料名：

Vacuum (Vacuum)

巻： 140 ページ： 139-143 発行年： 2017年
JST資料番号： E0347A ISSN： 0042-207X 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

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