文献
J-GLOBAL ID:201702246655987791
整理番号:17A0832778
大面積ハイブリッド光-リチウムニオブ酸導波路マイクロチップのための不均一材料スタックの熱応力の低減【Powered by NICT】
Reducing the thermal stress in a heterogeneous material stack for large-area hybrid optical silicon-lithium niobate waveguide micro-chips
著者 (2件):
Weigel P.O.
(Electrical & Computer Engineering, University of California, San Diego, La Jolla, CA, 92093, USA)
,
Mookherjea S.
(Electrical & Computer Engineering, University of California, San Diego, La Jolla, CA, 92093, USA)
資料名:
Optical Materials
(Optical Materials)
巻:
66
ページ:
605-610
発行年:
2017年
JST資料番号:
W0468A
ISSN:
0925-3467
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)