文献
J-GLOBAL ID:201702246841236285
整理番号:17A1764202
空間的に閉じ込められた原子層堆積およびその場でのUHV表面分析のためのマイクロリアクターの設計と特性評価
Design and characterization of a microreactor for spatially confined atomic layer deposition and in situ UHV surface analysis
著者 (5件):
Chen Jiun-Ruey
(School of Chemical and Biomolecular Engineering Cornell University, Ithaca, New York 14853)
,
Zhang Wenyu
(School of Chemical and Biomolecular Engineering Cornell University, Ithaca, New York 14853)
,
Nahm Rambert K.
(School of Chemical and Biomolecular Engineering Cornell University, Ithaca, New York 14853)
,
DiFeo Michael A.
(School of Chemical and Biomolecular Engineering Cornell University, Ithaca, New York 14853)
,
Engstrom James R.
(School of Chemical and Biomolecular Engineering Cornell University, Ithaca, New York 14853)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
35
号:
6
ページ:
061604-061604-10
発行年:
2017年11月
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)