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文献
J-GLOBAL ID：201702247729037443
整理番号：17A0312877
抗生物質汚染物質の除去のための効率的で安定なNb_2O_5修飾G C_3N_4光触媒【Powered by NICT】
Efficient and stable Nb2O5 modified g-C3N4 photocatalyst for removal of antibiotic pollutant
Hong Yuanzhi
(School of Materials Science and Engineering, Jiangsu University, Zhenjiang 212013, PR China)
,
Li Changsheng
(School of Materials Science and Engineering, Jiangsu University, Zhenjiang 212013, PR China)
,
Zhang Guangyi
(School of Chemistry and Chemical Engineering, Jiangsu University, Zhenjiang 212013, PR China)
,
Meng Yadong
(School of Chemistry and Chemical Engineering, Jiangsu University, Zhenjiang 212013, PR China)
,
Yin Bingxin
(School of Chemistry and Chemical Engineering, Jiangsu University, Zhenjiang 212013, PR China)
,
Zhao Yong
(School of Chemistry and Chemical Engineering, Jiangsu University, Zhenjiang 212013, PR China)
,
Shi Weidong
(School of Chemistry and Chemical Engineering, Jiangsu University, Zhenjiang 212013, PR China)
資料名：
Chemical Engineering Journal
(Chemical Engineering Journal)
巻： 299 ページ： 74-84 発行年： 2016年09月01日
JST資料番号： D0723A ISSN： 1385-8947 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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