前のページに戻る この文献は全文を取り寄せることができます
JDreamⅢ複写サービスから文献全文の複写(冊子体のコピー)をお申込みできます。
ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です。
既に、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDをお持ちの方
JDreamⅢ複写サービスのご利用が初めての方
取り寄せる文献のタイトルと詳細
文献
J-GLOBAL ID:201702248075892220   整理番号:17A0407461

プラズマ損傷の自由であることの対向ターゲットスパッタリングによるグラフェン底部電極上に蒸着した大面積薄膜キャパシタ【Powered by NICT】

Large-area thin-film capacitors deposited onto graphene bottom electrodes via facing-target sputtering that is free of plasma damage
著者 (4件):
Kim Jae-Hee
(Department of Materials Science and Engineering, Chungnam National University, Daeduk Science Town, 34143, Daejeon, South Korea)
Park Byeong-Ju
(Department of Materials Science and Engineering, Chungnam National University, Daeduk Science Town, 34143, Daejeon, South Korea)
Eom Ji-Ho
(Department of Materials Science and Engineering, Chungnam National University, Daeduk Science Town, 34143, Daejeon, South Korea)
Yoon Soon-Gil
(Department of Materials Science and Engineering, Chungnam National University, Daeduk Science Town, 34143, Daejeon, South Korea)

資料名:
Journal of Alloys and Compounds  (Journal of Alloys and Compounds)

巻: 695  ページ: 2886-2893  発行年: 2017年 
JST資料番号: D0083A  ISSN: 0925-8388  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
JDreamⅢ複写サービスとは
JDreamⅢ複写サービスは、学術文献の全文を複写(コピー)して取り寄せできる有料サービスです。インターネットに公開されていない文献や、図書館に収録されていない文献の全文を、オンラインで取り寄せることができます。J-GLOBALの整理番号にも対応しているので、申し込みも簡単にできます。全文の複写(コピー)は郵送またはFAXでお送りします

※ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です
※初めてご利用される方は、JDreamⅢ複写サービスのご案内をご覧ください。