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文献
J-GLOBAL ID：201702248285044454
整理番号：17A0462201
酸素を含まないエピ用GaSb(100)基板のためのガリウムのin situフラッシュ法
In situ flashes of gallium technique for oxide-free epiready GaSb (100) surface
Mathews Sen
(Center for High Technology Materials, University of New Mexico, Albuquerque, New Mexico 87106)
,
Schuler-Sandy Theodore
(Center for High Technology Materials, University of New Mexico, Albuquerque, New Mexico 87106)
,
Kim Jong Su
(Department of Physics, Yeungnam University, Gyeongsan 712-749, South Korea, 38541)
,
Kadlec Clark
(Center for High Technology Materials, University of New Mexico, Albuquerque, New Mexico 87106)
,
Kazemi Alireza
(Center for High Technology Materials, University of New Mexico, Albuquerque, New Mexico 87106)
,
Dahiya Vinita
(Center for High Technology Materials, University of New Mexico, Albuquerque, New Mexico 87106)
,
Ramirez David A.
(SK Infrared, 801 University Blvd. SE Suite 205, Albuquerque, New Mexico 87106)
,
Myers Stephen A.
(SK Infrared, 801 University Blvd. SE Suite 205, Albuquerque, New Mexico 87106)
,
Kuznetsova Yuliya V.
(SK Infrared, 801 University Blvd. SE Suite 205, Albuquerque, New Mexico 87106)
,
Krishna Sanjay
(Department of Electrical and Computer Engineering, The Ohio State University, Columbus, Ohio 43210; Center for High Technology Materials University of New Mexico, Albuquerque, New Mexico 87106; and SK Infrared, 801 University Blvd. SE Suite 205, Albuquerque, New Mexico 87106)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena)
巻： 35 号： 2 ページ： 02B114-02B114-4 発行年： 2017年03月
JST資料番号： E0974A ISSN： 2166-2746 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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