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文献
J-GLOBAL ID:201702249400887690   整理番号:17A0407082

523Kでのマグネトロンスパッタリングを用いて蒸着したCo-N薄膜の構造と磁気的性質【Powered by NICT】

Structural and magnetic properties of Co-N thin films deposited using magnetron sputtering at 523 K
著者 (8件):
Pandey Nidhi
(UGC-DAE Consortium for Scientific Research, University Campus, Khandwa Road, Indore, 452 001, India)
Gupta Mukul
(UGC-DAE Consortium for Scientific Research, University Campus, Khandwa Road, Indore, 452 001, India)
Gupta Rachana
(Institute of Engineering and Technology DAVV, Khandwa Road, Indore, 452 017, India)
Chakravarty Sujay
(UGC-DAE Consortium for Scientific Research, Kalpakkam Node, Kokilamedu, 603 104, Tamilnadu, India)
Shukla Neeraj
(UGC-DAE Consortium for Scientific Research, Kalpakkam Node, Kokilamedu, 603 104, Tamilnadu, India)
Devishvili Anton
(Institut Laue-Langevin, rue des Martyrs, 38042, Grenoble Cedex, France)
Devishvili Anton
(Division of Physical Chemistry, Department of Chemistry, Lund University, 124, Lund, S221 00, Sweden)
Devishvili Anton
(Department of Physics & Astronomy, Uppsala University, Box 530, SE-75121, Uppsala, Sweden)

資料名:
Journal of Alloys and Compounds  (Journal of Alloys and Compounds)

巻: 694  ページ: 1209-1213  発行年: 2017年 
JST資料番号: D0083A  ISSN: 0925-8388  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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