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文献
J-GLOBAL ID：201702249524131360
整理番号：17A0132707
原子層堆積法におけるビスジエチルアミノシランとトリメチルアルミニウムとの付着係数の温度依存性
Temperature dependence of the sticking coefficients of bis-diethyl aminosilane and trimethylaluminum in atomic layer deposition
Schwille Matthias C.
(Robert Bosch GmbH, 72762 Reutlingen, Germany)
,
Schossler Timo
(Robert Bosch GmbH, 72762 Reutlingen, Germany)
,
Schon Florian
(Robert Bosch GmbH, 72762 Reutlingen, Germany)
,
Oettel Martin
(Institute of Applied Physics, Tuebingen University, 72076 Tuebingen, Germany)
,
Bartha Johann W.
(Department of Electrical Engineering and Information Technology, IHM, Technische Universitaet Dresden, 01062 Dresden, Germany)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 35 号： 1 ページ： 01B119-01B119-7 発行年： 2017年01月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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