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文献
J-GLOBAL ID：201702250035599100
整理番号：17A0449302
高パワーインパルスマグネトロンスパッタリング法によるダイヤモンド状炭素薄膜の蒸着【Powered by NICT】
Deposition of diamond-like carbon thin films by the high power impulse magnetron sputtering method
Wiatrowski A.
(Faculty of Microsystem Electronics and Photonics, Wroclaw University of Science and Technology, Janiszewskiego 11/17, 50-372 Wroclaw, Poland)
,
Kijaszek W.
(Faculty of Microsystem Electronics and Photonics, Wroclaw University of Science and Technology, Janiszewskiego 11/17, 50-372 Wroclaw, Poland)
,
Posadowski W.M.
(Faculty of Microsystem Electronics and Photonics, Wroclaw University of Science and Technology, Janiszewskiego 11/17, 50-372 Wroclaw, Poland)
,
Oleszkiewicz W.
(Faculty of Microsystem Electronics and Photonics, Wroclaw University of Science and Technology, Janiszewskiego 11/17, 50-372 Wroclaw, Poland)
,
Jadczak J.
(Department of Experimental Physics, Faculty of Fundamental Problems of Technology, Wroclaw University of Science and Technology, Wybrzeze Wyspianskiego 27, 50-370 Wroclaw, Poland)
,
Kunicki P.
(Faculty of Microsystem Electronics and Photonics, Wroclaw University of Science and Technology, Janiszewskiego 11/17, 50-372 Wroclaw, Poland)
資料名：
Diamond and Related Materials
(Diamond and Related Materials)
巻： 72 ページ： 71-76 発行年： 2017年
JST資料番号： W0498A ISSN： 0925-9635 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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