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文献
J-GLOBAL ID:201702250221236005   整理番号:17A0653227

WS2量子ドット:作成,特性評価,および,ポリメタクリル酸メチルにおけるその光学リミット効果

The WS2 quantum dot: preparation, characterization and its optical limiting effect in polymethylmethacrylate
著者 (9件):
LONG Hui
(Hong Kong Polytechnic Univ., Hong Kong, CHN)
LONG Hui
(Hong Kong Polytechnic Univ. Shenzhen Res. Inst., Shenzhen, CHN)
TAO Lili
(Hong Kong Polytechnic Univ., Hong Kong, CHN)
CHIU Chun Pang
(Hong Kong Polytechnic Univ., Hong Kong, CHN)
TANG Chun Yin
(Hong Kong Polytechnic Univ., Hong Kong, CHN)
FUNG Kin Hung
(Hong Kong Polytechnic Univ., Hong Kong, CHN)
CHAI Yang
(Hong Kong Polytechnic Univ., Hong Kong, CHN)
TSANG Yuen Hong
(Hong Kong Polytechnic Univ., Hong Kong, CHN)
TSANG Yuen Hong
(Hong Kong Polytechnic Univ. Shenzhen Res. Inst., Shenzhen, CHN)

資料名:
Nanotechnology  (Nanotechnology)

巻: 27  号: 41  ページ: 414005,1-7  発行年: 2016年10月14日 
JST資料番号: W0108A  ISSN: 0957-4484  CODEN: NNOTER  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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