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文献
J-GLOBAL ID：201702250229252885
整理番号：17A0214229
サブ5nm単分子層MoS_2FETのためのn/p型手術と界面障壁低下によるSi TMD接触の数値的研究【Powered by NICT】
A numerical study of Si-TMD contact with n/p type operation and interface barrier reduction for sub-5 nm monolayer MoS2 FET
Tang Ying-Tsan
(National Nano Device Laboratories, National Applied Research Laboratories, Taiwan)
,
Li Kai-Shin
(National Nano Device Laboratories, National Applied Research Laboratories, Taiwan)
,
Li Lain-Jong
(Physical Sci. and Eng., King Abdullah University of Sci. and Technology, Kingdom of Saudi Arabia)
,
Li Ming-Yang
(Physical Sci. and Eng., King Abdullah University of Sci. and Technology, Kingdom of Saudi Arabia)
,
Lin Chang-Hsien
(National Nano Device Laboratories, National Applied Research Laboratories, Taiwan)
,
Chen Yi-Ju
(National Nano Device Laboratories, National Applied Research Laboratories, Taiwan)
,
Chen Chun-Chi
(National Nano Device Laboratories, National Applied Research Laboratories, Taiwan)
,
Su Chuan-Jung
(National Nano Device Laboratories, National Applied Research Laboratories, Taiwan)
,
Wu Bo-Wei
(National Nano Device Laboratories, National Applied Research Laboratories, Taiwan)
,
Wu Cheng-San
(National Nano Device Laboratories, National Applied Research Laboratories, Taiwan)
,
Chen Min-Cheng
(National Nano Device Laboratories, National Applied Research Laboratories, Taiwan)
,
Shieh Jia-Min
(National Nano Device Laboratories, National Applied Research Laboratories, Taiwan)
,
Yeh Wen-Kuan
(National Nano Device Laboratories, National Applied Research Laboratories, Taiwan)
,
Su Po-Cheng
(Dept. of Electronics Eng., National Chiao-Tung University, Taiwan)
,
Wang Tahui
(Dept. of Electronics Eng., National Chiao-Tung University, Taiwan)
,
Yang Fu-Liang
(Research Center for Applied Sci., Academia Sinica, Taiwan)
,
Hu Chenming
(Dept. of Electrical Eng. and Computer Science, University of California, Berkeley, USA)
資料名：
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻： 2016 号： IEDM ページ： 14.3.1-14.3.4 発行年： 2016年
JST資料番号： W2441A 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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