文献
J-GLOBAL ID:201702250578025256
整理番号:17A0325230
低電流,高耐久性チタンニオブ酸化物メモリスタの空間的に一様な抵抗スイッチング【Powered by NICT】
Spatially uniform resistance switching of low current, high endurance titanium-niobium-oxide memristors
著者 (9件):
Kumar Suhas
(Hewlett Packard Labs, 1501 Page Mill Rd, Palo Alto, CA 94304, USA. suhas.kumar@hpe.com stan.williams@hpe.com)
,
Davila Noraica
,
Wang Ziwen
,
Huang Xiaopeng
,
Strachan John Paul
,
Vine David
,
David Kilcoyne A. L.
,
Nishi Yoshio
,
Stanley Williams R.
資料名:
Nanoscale
(Nanoscale)
巻:
9
号:
5
ページ:
1793-1798
発行年:
2017年
JST資料番号:
W2323A
ISSN:
2040-3364
CODEN:
NANOHL
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)