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文献
J-GLOBAL ID:201702250578025256   整理番号:17A0325230

低電流,高耐久性チタンニオブ酸化物メモリスタの空間的に一様な抵抗スイッチング【Powered by NICT】

Spatially uniform resistance switching of low current, high endurance titanium-niobium-oxide memristors
著者 (9件):
Kumar Suhas
(Hewlett Packard Labs, 1501 Page Mill Rd, Palo Alto, CA 94304, USA. suhas.kumar@hpe.com stan.williams@hpe.com)
Davila Noraica
Wang Ziwen
Huang Xiaopeng
Strachan John Paul
Vine David
David Kilcoyne A. L.
Nishi Yoshio
Stanley Williams R.

資料名:
Nanoscale  (Nanoscale)

巻:号:ページ: 1793-1798  発行年: 2017年 
JST資料番号: W2323A  ISSN: 2040-3364  CODEN: NANOHL  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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