文献
J-GLOBAL ID:201702250933412191
整理番号:17A0132695
プラズマ支援原子層堆積ステップにプラズマエッチングのスーパーサイクルを加えたTa2O5の選択成長
Selective deposition of Ta2O5 by adding plasma etching super-cycles in plasma enhanced atomic layer deposition steps
著者 (4件):
Vallat Remi
(Univ. Grenoble Alpes, LTM-CNRS, F-38000 Grenoble, France and CEA, LETI, Minatec Campus, F-38054 Grenoble, France)
,
Gassilloud Remy
(CEA, LETI, Minatec Campus, F-38054 Grenoble, France)
,
Eychenne Brice
(Univ. Grenoble Alpes, LTM-CNRS, F-38000 Grenoble, France)
,
Vallee Christophe
(Univ. Grenoble Alpes, LTM-CNRS, F-38000 Grenoble, France)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
35
号:
1
ページ:
01B104-01B104-7
発行年:
2017年01月
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)