文献
J-GLOBAL ID:201702251229123219
整理番号:17A0680774
極薄MoS2トランジスタにおける少量の電子ビーム露光により誘導されたナノスケールバリア形成
Nanoscale-Barrier Formation Induced by Low-Dose Electron-Beam Exposure in Ultrathin MoS2 Transistors
著者 (13件):
MATSUNAGA Masahiro
(Chiba Univ., Chiba, JPN)
,
HIGUCHI Ayaka
(Chiba Univ., Chiba, JPN)
,
HE Guanchen
(State Univ. New York, New York, USA)
,
YAMADA Tetsushi
(Chiba Univ., Chiba, JPN)
,
KRUEGER Peter
(Chiba Univ., Chiba, JPN)
,
OCHIAI Yuichi
(Chiba Univ., Chiba, JPN)
,
GONG Yongji
(Rice Univ., Texas, USA)
,
VAJTAI Robert
(Rice Univ., Texas, USA)
,
AJAYAN Pulickel M.
(Rice Univ., Texas, USA)
,
BIRD Jonathan P.
(Chiba Univ., Chiba, JPN)
,
BIRD Jonathan P.
(State Univ. New York, New York, USA)
,
AOKI Nobuyuki
(Chiba Univ., Chiba, JPN)
,
AOKI Nobuyuki
(JST-PRESTO, Kawaguchi, JPN)
資料名:
ACS Nano
(ACS Nano)
巻:
10
号:
10
ページ:
9730-9737
発行年:
2016年10月
JST資料番号:
W2326A
ISSN:
1936-0851
CODEN:
ANCAC3
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)