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文献
J-GLOBAL ID：201702251405179808
整理番号：17A0965758
28nmノードとそれ以降のためのリソグラフィーシステムの画像能力を改善するためのSMO過程の研究【Powered by NICT】
Research of SMO process to improve the imaging capability of lithography system for 28nm node and beyond
Haibin Yu
(Shanghai Huali Microelectronics Corporation, China)
,
Yueyu Zhang
(Shanghai Huali Microelectronics Corporation, China)
,
Binjie Jiang
(Shanghai Huali Microelectronics Corporation, China)
,
Shirui Yu
(Shanghai Huali Microelectronics Corporation, China)
,
Zhibiao Mao
(Shanghai Huali Microelectronics Corporation, China)
資料名：
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻： 2017 号： CSTIC ページ： 1-3 発行年： 2017年
JST資料番号： W2441A 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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