文献
J-GLOBAL ID:201702252047112011
整理番号:17A1764192
スパッタ堆積膜におけるβ-タングステン形成に対する堆積速度,下地層,および基板の影響
Impact of deposition rate, underlayers, and substrates on β-tungsten formation in sputter deposited films
著者 (2件):
Barmak Katayun
(Department of Applied Physics and Applied Mathematics, Columbia University, New York, New York 10027)
,
Liu Jiaxing
(Department of Applied Physics and Applied Mathematics, Columbia University, New York, New York 10027)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
35
号:
6
ページ:
061516-061516-6
発行年:
2017年11月
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)