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J-GLOBAL ID：201702252406991392 整理番号：17A1458529

a-に取込まれたクラスタの体積分率におけるヒステリシス:SiH_4プラズマ化学蒸着により堆積した【Powered by NICT】

Hysteresis in volume fraction of clusters incorporated into a-Si:H films deposited by SiH₄ plasma chemical vapor deposition

著者 (8件)：

Toko Susumu

(Graduate School of Information Science and Electrical Engineering, Kyushu University, Fukuoka 819-0395, Japan)

,

Torigoe Yoshihiro

(Graduate School of Information Science and Electrical Engineering, Kyushu University, Fukuoka 819-0395, Japan)

,

Keya Kimitaka

(Graduate School of Information Science and Electrical Engineering, Kyushu University, Fukuoka 819-0395, Japan)

,

Kojima Takashi

(Graduate School of Information Science and Electrical Engineering, Kyushu University, Fukuoka 819-0395, Japan)

,

Seo Hyunwoong

(Graduate School of Information Science and Electrical Engineering, Kyushu University, Fukuoka 819-0395, Japan)

,

Itagaki Naho

(Graduate School of Information Science and Electrical Engineering, Kyushu University, Fukuoka 819-0395, Japan)

,

Koga Kazunori

(Graduate School of Information Science and Electrical Engineering, Kyushu University, Fukuoka 819-0395, Japan)

,

Shiratani Masaharu

(Graduate School of Information Science and Electrical Engineering, Kyushu University, Fukuoka 819-0395, Japan)

資料名：

Surface & Coatings Technology (Surface & Coatings Technology)

巻： 326 号： PB ページ： 388-394 発行年： 2017年
JST資料番号： D0205C ISSN： 0257-8972 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

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