文献
J-GLOBAL ID:201702252549258254
整理番号:17A0124348
30keV電子ビーム電圧での前処置法を用いたAl/AlO_x/Al接合の作製【Powered by NICT】
Fabrication of Al/AlO_x/Al junctions using pre-exposure technique at 30-keV e-beam voltage
著者 (6件):
Lan Dong
(School of Physics, Nanjing University)
,
Xue Guangming
(School of Physics, Nanjing University)
,
Liu Qiang
(School of Physics, Nanjing University)
,
Tan Xinsheng
(School of Physics, Nanjing University)
,
Yu Haifeng
(School of Physics, Nanjing University)
,
Yu Yang
(School of Physics, Nanjing University)
資料名:
Chinese Physics B
(Chinese Physics B)
巻:
25
号:
8
ページ:
088501-1-088501-04
発行年:
2016年
JST資料番号:
W1539A
ISSN:
1674-1056
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
中国 (CHN)
言語:
英語 (EN)