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文献
J-GLOBAL ID：201702252723877997
整理番号：17A0953280
ガラスインプリンティングモールド用の高平坦化Ni-W電着物
Formation of highly planarized Ni-W electrodeposits for glass imprinting mold
YASUI Manabu
(Kanagawa Industrial Technol. Center, Kanagawa, JPN)
,
KANEKO Satoru
(Kanagawa Industrial Technol. Center, Kanagawa, JPN)
,
KUROUCHI Masahito
(Kanagawa Industrial Technol. Center, Kanagawa, JPN)
,
ITO Hiroaki
(Aoyama Gakuin Univ., Sagamihara, JPN)
,
OZAWA Takeshi
(Kanagawa Industrial Technol. Center, Kanagawa, JPN)
,
ARAI Masahiro
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 56 号： 1S ページ： 01AB04.1-01AB04.4 発行年： 2017年01月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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