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文献
J-GLOBAL ID:201702253086283816   整理番号:17A0825202

HfO_2~-不動態化した黒リントランジスタに及ぼす総電離線量効果【Powered by NICT】

Total Ionizing Dose Effects on HfO2-Passivated Black Phosphorus Transistors
著者 (8件):
Liang C.
(Electrical Engineering and Computer Science Department, Vanderbilt University, Nashville, TN, USA)
Su Y.
(Electrical Engineering and Computer Science Department, University of Minnesota, Minneapolis, MN, USA)
Zhang E. X.
(Electrical Engineering and Computer Science Department, Vanderbilt University, Nashville, TN, USA)
Ni K.
(Electrical Engineering and Computer Science Department, Vanderbilt University, Nashville, TN, USA)
Alles M. L.
(Electrical Engineering and Computer Science Department, Vanderbilt University, Nashville, TN, USA)
Schrimpf R. D.
(Electrical Engineering and Computer Science Department, Vanderbilt University, Nashville, TN, USA)
Fleetwood D. M.
(Electrical Engineering and Computer Science Department, Vanderbilt University, Nashville, TN, USA)
Koester S. J.
(Electrical Engineering and Computer Science Department, University of Minnesota, Minneapolis, MN, USA)

資料名:
IEEE Transactions on Nuclear Science  (IEEE Transactions on Nuclear Science)

巻: 64  号:ページ: 170-175  発行年: 2017年 
JST資料番号: C0235A  ISSN: 0018-9499  CODEN: IETNAE  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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