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文献
J-GLOBAL ID：201702253470247084
整理番号：17A0462179
無彩色のTalbotリソグラフィにおけるパターン生成への対称性とデューティサイクルの影響
Influence of symmetry and duty cycles on the pattern generation in achromatic Talbot lithography
Yang Shumin
(Shanghai Institute of Applied Physics, Shanghai Synchrotron Radiation Facility, Shanghai 201800, China)
,
Zhao Jun
(Shanghai Institute of Applied Physics, Shanghai Synchrotron Radiation Facility, Shanghai 201800, China)
,
Wang Liansheng
(Shanghai Institute of Applied Physics, Shanghai Synchrotron Radiation Facility, Shanghai 201800, China)
,
Zhu Fangyuan
(Shanghai Institute of Applied Physics, Shanghai Synchrotron Radiation Facility, Shanghai 201800, China)
,
Xue Chaofan
(Shanghai Institute of Applied Physics, Shanghai Synchrotron Radiation Facility, Shanghai 201800, China)
,
Liu Haigang
(Shanghai Institute of Applied Physics, Shanghai Synchrotron Radiation Facility, Shanghai 201800, China)
,
Sang Huazheng
(Department of Physics, East China University of Science and Technology, 130 Meilong Road, Shanghai 200237, China)
,
Wu Yanqing
(Shanghai Institute of Applied Physics, Shanghai Synchrotron Radiation Facility, Shanghai 201800, China)
,
Tai Renzhong
(Shanghai Institute of Applied Physics, Shanghai Synchrotron Radiation Facility, Shanghai 201800, China)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena)
巻： 35 号： 2 ページ： 021601-021601-7 発行年： 2017年03月
JST資料番号： E0974A ISSN： 2166-2746 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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