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文献
J-GLOBAL ID：201702253608957519
整理番号：17A0965782
HK膜中の不純物の研究【Powered by NICT】
The study of the impurity in HK film
Yingming Liu
(Shanghai Huali Microelectronics Corporation, 568 Gaosi Rd., Pudong district, China)
,
Qiuming Huang
(Shanghai Huali Microelectronics Corporation, 568 Gaosi Rd., Pudong district, China)
,
Haifeng Zhou
(Shanghai Huali Microelectronics Corporation, 568 Gaosi Rd., Pudong district, China)
資料名：
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻： 2017 号： CSTIC ページ： 1-3 発行年： 2017年
JST資料番号： W2441A 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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