文献
J-GLOBAL ID:201702253764708190
整理番号:17A0086769
種々の分子量を有する高分子型電子ビームレジストのパターン形成の現像液の分子サイズ依存性
Developer molecular size dependence of pattern formation of polymer type electron beam resists with various molecular weights
著者 (6件):
TAKAYAMA Tomohiro
(Yamaguchi Univ., Ube, JPN)
,
ASADA Hironori
(Yamaguchi Univ., Ube, JPN)
,
KISHIMURA Yukiko
(Yamaguchi Univ., Ube, JPN)
,
OCHIAI Shunsuke
(Yamaguchi Univ., Ube, JPN)
,
HOSHINO Ryoichi
(LLC Gluon Lab, Ube, JPN)
,
KAWATA Atsushi
(LLC Gluon Lab, Ube, JPN)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
9984
ページ:
99840L.1-99840L.6
発行年:
2016年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)