文献
J-GLOBAL ID:201702254674973742
整理番号:17A1046421
マグネトロンスパッタリングで堆積したZnO:Al薄膜のホール移動度に及ぼすキャリア濃度の影響:
The Effects of the Carrier Concentrations on the Hall Mobilities of ZnO:Al Thin Films Deposited by Magnetron Sputtering
著者 (3件):
WANG Xiao-Jing
(Wuhan Textile Univ., Wuhan, CHN)
,
WANG Xiao-Jing
(Hubei PV Center of Engineering & Technol., Wuhan, CHN)
,
ZHANG Yun
(Wuhan Textile Univ., Wuhan, CHN)
資料名:
Key Engineering Materials
(Key Engineering Materials)
巻:
727
ページ:
938-941
発行年:
2017年
JST資料番号:
D0744C
ISSN:
1013-9826
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
スイス (CHE)
言語:
英語 (EN)