文献
J-GLOBAL ID:201702255254242316
整理番号:17A0325107
シリコン中の個々のひ素ドーパントを通過する単一電子トンネリング【Powered by NICT】
Single-electron tunneling through an individual arsenic dopant in silicon
著者 (5件):
Shorokhov V. V.
(M.V. Lomonosov Moscow State University, Moscow 119991, Russia)
,
Presnov D. E.
,
Amitonov S. V.
,
Pashkin Yu. A.
,
Krupenin V. A.
資料名:
Nanoscale
(Nanoscale)
巻:
9
号:
2
ページ:
613-620
発行年:
2017年
JST資料番号:
W2323A
ISSN:
2040-3364
CODEN:
NANOHL
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)