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文献
J-GLOBAL ID：201702255406458448
整理番号：17A0318073
レーザ干渉リソグラフィーと湿式エッチングによるナノ開口を有する逆ピラミッドピットの作製【Powered by NICT】
Fabrication of inverted pyramidal pits with Nano-opening by laser interference lithography and wet etching
Quan Baogang
(Beijing National Laboratory for Condensed Matter Physics, Institute of Physics, Chinese Academy of Sciences, Beijing, 100190, China)
,
Yao Zehan
(Beijing National Laboratory for Condensed Matter Physics, Institute of Physics, Chinese Academy of Sciences, Beijing, 100190, China)
,
Sun Weijie
(Beijing National Laboratory for Condensed Matter Physics, Institute of Physics, Chinese Academy of Sciences, Beijing, 100190, China)
,
Liu Zhe
(Beijing National Laboratory for Condensed Matter Physics, Institute of Physics, Chinese Academy of Sciences, Beijing, 100190, China)
,
Xia Xiaoxiang
(Beijing National Laboratory for Condensed Matter Physics, Institute of Physics, Chinese Academy of Sciences, Beijing, 100190, China)
,
Gu Changzhi
(Beijing National Laboratory for Condensed Matter Physics, Institute of Physics, Chinese Academy of Sciences, Beijing, 100190, China)
,
Li Junjie
(Beijing National Laboratory for Condensed Matter Physics, Institute of Physics, Chinese Academy of Sciences, Beijing, 100190, China)
資料名：
Microelectronic Engineering
(Microelectronic Engineering)
巻： 163 ページ： 110-114 発行年： 2016年
JST資料番号： C0406B ISSN： 0167-9317 CODEN： MIENEF 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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