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文献
J-GLOBAL ID：201702256527542644
整理番号：17A0865303
EB/UV複合リソグラフィによるポジ型レジスト層中へのネガ調パターンの形成
Negative Pattern Formation in Positive Resist Layer by EB / UV Hybrid Lithography
Nakano Hiroki
(Nagaoka University of Technology)
,
Takahashi Kenta
(Nagaoka University of Technology)
,
Kawai Akira
(Nagaoka University of Technology)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 29 号： 4 ページ： 603-606(J-STAGE) 発行年： 2016年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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