文献
J-GLOBAL ID:201702256671300543
整理番号:17A0131027
紫外レーザーアシスト化学気相成長法による無機薄膜の低温堆積
Low Temperature Deposition of Inorganic Thin Films by Ultraviolet Laser-Assisted Chemical Vapor Deposition
著者 (7件):
KUK Seungkuk
(State Univ. New York, NY, USA)
,
PARK Jongmin
(State Univ. New York, NY, USA)
,
ZHANG Tao
(State Univ. New York, NY, USA)
,
LEE Ho-Nyun
(Korea Inst. of Industrial Technol., Incheon, KOR)
,
CHO Kwan Hyun
(Korea Inst. of Industrial Technol., Ansan, KOR)
,
KANG Kyung Tae
(Korea Inst. of Industrial Technol., Ansan, KOR)
,
HWANG David J.
(State Univ. New York, NY, USA)
資料名:
Nanoscience and Nanotechnology Letters
(Nanoscience and Nanotechnology Letters)
巻:
8
号:
7
ページ:
586-591
発行年:
2016年07月
JST資料番号:
W2373A
ISSN:
1941-4900
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)