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文献
J-GLOBAL ID：201702256798607750
整理番号：17A1570079
ハイブリッド電子ビームとDSA二重パターン形成リソグラフィーのためのレイアウト分解【Powered by NICT】
Layout decomposition for hybrid E-beam and DSA double patterning lithography
Yang Yunfeng
(State Key Lab. of ASIC & System, Microelectronics Dept., Fudan University, China)
,
Yang Fan
(State Key Lab. of ASIC & System, Microelectronics Dept., Fudan University, China)
,
Luk Wai-Shing
(State Key Lab. of ASIC & System, Microelectronics Dept., Fudan University, China)
,
Yan Changhao
(State Key Lab. of ASIC & System, Microelectronics Dept., Fudan University, China)
,
Zeng Xuan
(State Key Lab. of ASIC & System, Microelectronics Dept., Fudan University, China)
,
Hu Xiangdong
(Shanghai High-Performance Integrated-Circuit Design Center, China)
資料名：
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻： 2017 号： ISCAS ページ： 1-4 発行年： 2017年
JST資料番号： W2441A 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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