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文献
J-GLOBAL ID：201702256920463404
整理番号：17A0040524
エレクトロクロミックデバイスに用いる多孔性ナノ結晶酸化スズ(IV)膜の製造のための低温プロセス
Low-temperature Process for Fabrication of Porous Nanocrystalline Tin(IV) Oxide Film for Electrochromic Devices
Horiuchi Tamotsu
(System Device Development Department, Ricoh Institute of Future Technology, Ricoh Company Limited)
,
Horiuchi Tamotsu
(Graduate School of Life Science and Systems Engineering, Kyushu Institute of Technology)
,
Yutani Keiichiro
(System Device Development Department, Ricoh Institute of Future Technology, Ricoh Company Limited)
,
Inoue Mamiko
(System Device Development Department, Ricoh Institute of Future Technology, Ricoh Company Limited)
,
Yashiro Tohru
(System Device Development Department, Ricoh Institute of Future Technology, Ricoh Company Limited)
,
Yoshioka Shinji
(System Device Development Department, Ricoh Institute of Future Technology, Ricoh Company Limited)
,
Uchida Satoshi
(Komaba Organization for Educational Excellence (KOMEX), College of Arts and Sciences, The University of Tokyo)
,
Hirotani Daisuke
(Graduate School of Life Science and Systems Engineering, Kyushu Institute of Technology)
,
Ogomi Yuhei
(Graduate School of Life Science and Systems Engineering, Kyushu Institute of Technology)
,
Hayase Shuji
(Graduate School of Life Science and Systems Engineering, Kyushu Institute of Technology)
資料名：
Chemistry Letters
(Chemistry Letters)
巻： 45 号： 7 ページ： 714-716(J-STAGE) 発行年： 2016年
JST資料番号： S0742A ISSN： 0366-7022 CODEN： CMLTAG 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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