文献
J-GLOBAL ID:201702256946706639
整理番号:17A1088555
大容量半導体製造用ナノインプリントシステムの開発とオーバーレイ性能の現状
Nanoimprint system development for high-volume semiconductor manufacturing and the status of overlay performance
著者 (10件):
TAKABAYASHI Yukio
(Canon Inc., Tochigi, JPN)
,
HIURA Mitsuru
(Canon Inc., Tochigi, JPN)
,
MOROHOSHI Hiroshi
(Canon Inc., Tochigi, JPN)
,
KODACHI Nobuhiro
(Canon Inc., Tochigi, JPN)
,
HAYASHI Tatsuya
(Canon Inc., Tochigi, JPN)
,
KIMURA Atsushi
(Canon Inc., Tochigi, JPN)
,
YOSHIDA Takahiro
(Canon Inc., Tochigi, JPN)
,
MISHIMA Kazuhiko
(Canon Inc., Tochigi, JPN)
,
SUZAKI Yoshio
(Canon Inc., Tochigi, JPN)
,
CHOI Jin
(Canon Nanotechnologies, Inc., TX, USA)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
10144
ページ:
1014405.1-1014405.10
発行年:
2017年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)